产品分类结果页

我们的服务

Our service

SRS-180小型磁控溅射镀膜仪多靶位溅射PVD系统

SRS-180小型磁控溅射仪，配备三个微型磁控溅射靶群，适用于沉积各种单/多层膜系.可实现单靶直溅和多靶共射功能。即插即用，方便快捷。

¥ 0.00

立即购买
SRT-300电阻热蒸发镀膜仪科研实验用全自动微型PVD蒸发台

热蒸发是一种简单常用的物理气相沉积（PVD）技术，SRT3热蒸发镀膜仪采用三组热蒸发源在高真空环境沉积薄膜，适用于金属或合金的多层快速沉积。

¥ 0.00

立即购买
SRS-400型多靶磁控溅射镀膜机定制科研实验PVD系统

多靶磁控溅射PVD系统，SRS-400型磁控溅射镀膜机，配备三组磁控溅射靶群及控制系统，可沉积金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜层。

¥ 0.00

立即购买
SRS-500-U型自动进料PVD镀膜机科研实验用多靶位磁控溅射机

SRS-500-U型磁控溅射PVD系统在原有多靶磁控溅射机的基础增加了自动进料系统可全自动完成样品准备-真空准备-样品镀膜-样品自动装卸载功能。可快速预制样品并保持腔室和样品洁净度，减少中间操作和环境污染对工艺的影响。

¥ 0.00

立即购买
SRS-500型五靶磁控溅射镀膜机新材料研发用全自动磁控溅射PVD镀膜仪

SRS-500型磁控溅射PVD系统，最多可配备五个独立溅射靶位和配套直流和射频源，采用涡轮分子泵组和自动压控系统等高端配置，适用于沉积各种金属和反应膜层。可实现单靶直溅和多靶共溅功能。

¥ 0.00

立即购买
SRS-600射频/中频磁控溅射镀膜机定制新材料研发PVD系统

通过DC、RF（13.56 MHz）或脉冲MF（10 – 200 kHz）电源对金属、半导体及其化合物进行溅射沉积和反应膜磁控溅射沉积系统

¥ 0.00

立即购买
SR-LTD800真空箱式充氦回收检漏系统充氦回收氦气检漏装置定制

本方案适用于对空调两器、板式换热器、小型压力容器、大型电子元器件等产品的充氦检漏和氦气回收。运行效率高、氦气收率达到98%，是中大型器件生产企业产品检漏的理想装置。

¥ 0.00

立即购买
SR-LT600真空箱氦检漏装置压氦器件氦质谱检漏系统定制

本装置适用于中、小型压氦密封器件、压力容器、批量RAC元件及类似产品的部件装配和中期生产产品的检漏，系统功能简单可靠易用，拥有极快的检测速度，单箱最快检测节拍约60秒。

¥ 0.00

立即购买
定制圆形高真空磁控溅射靶科研实验用高真空溅镀靶群

圆形高真空靶适用于绝大多数磁控溅射材料，具有低放气，不需要在低真空环境启辉，可承受10 -9托压力，高效靶材利用率，可以使用RF，DC或Pulse-DC电源驱动等优点。

¥ 0.00

立即购买