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什么是等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)？
等离子增强化学气相沉积 (PECVD) 是一种低温真空薄膜沉积工艺，由于它能够在无法承受更传统 CVD 工艺温度的表面上施加涂层，因此在半导体行业具有非常强大的地位。
넶5 2022-08-28 -
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溅射真空镀膜技术简介
“真空镀膜技术简介”介绍各种 PVD（物理气相沉积）方法以及通常如何使用真空技术对产品进行镀膜。本文将向您介绍溅射技术的典型用途以及高真空泵应用于溅射工艺的特点。
넶4 2022-08-27 -
真空系统维护与安全指南
真空的质量由系统中剩余的气体分子数量表示，因为这种高质量的真空是其中残留的分子相对较少的一种。真空主要通过其绝对压力进行测量，但是，在考虑采用哪种类型的测量仪的同时，还必须考虑真空系统的维护和安全性，包括“除气”和污染物的控制。
넶36 2020-12-18 -
如何使用直接真空规与间接真空规
测量真空压力是所有真空系统的基本条件，但是没有一个通用的真空计可以测量整个真空环境的压力值。清楚地了解各种真空规类型之间的差异以及每种规管的核心特征和测量范围，对于正确使用真空规测量与之匹配的真空系统，在真空测量领域是至关重要的。
넶35 2020-12-18 -
