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离子束辅助的电子束沉积（ＩＢＤ）镀膜系统
多种电子束沉积镀膜系统解决方案，根据客户实际要求定制生产单/双电子束蒸发、电子束+电阻热蒸发、电子束沉积+离子束辅助等多种工艺PVD系统。并实现软件模块化，自主选择自动切换系统控制单元和工艺参数设定。制作完善可靠的多工艺镀膜系统。
넶346 2020-09-14 -
离子束辅助的热蒸发镀膜系统
在高真空环境中的材料通过电阻舟加热到蒸发点，材料汽化后从电阻舟沉积到基材表面形成原子薄膜层。离子束辅助能量通过氩气传递到基材表面的热蒸发原子，使原子在基材表面迁移并有序排列沉积，从而达到加速成膜速率和改善致密性的工艺要求。
넶99 2020-10-01 -
离子束辅助的离子束溅射系统（IBSD）
离子束溅射系统与蒸发沉积工艺相比，其成膜的密度，硬度和表面粗糙度得到很大改善。与磁控溅射相比，离子溅射在高真空环境中，可最大程度地减少沉积膜中稀有气体的夹杂并提高膜层的稳定性。
넶1276 2020-11-02
