SRS-180小型磁控溅射镀膜仪 多靶位溅射PVD系统
SRS-180小型磁控溅射仪，配备三组磁控溅射靶群及控制系统，适用于沉积各种单/多层膜系.可实现单靶直溅和多靶共射功能。制备氮化物和氧化物反应膜溅射功能，可沉积金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜层，非常适合科研实验或新材料研发使用，即插即用，方便快捷，适用于多层金属或合成膜沉积工艺。
主要特点：
- 多膜系沉积功能，可溅射绝大多数膜层
- DC/RF溅射电源可以使多种膜系随意切换
- 系统即插即用，方便快捷。
- 多靶共镀功能满足多层多膜系混镀要求
- 预设参数成膜过程无需人为干预
应用领域：
- 金属和介质膜
- 薄膜传感器的制造
- 光学元件
- 纳米与微电子
- 太阳能电池
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主要配置：
- 圆筒型真空室尺寸Ф180mm x180mm
- 50L/s涡轮分子泵+双级旋片泵组合
- 全量程B-A复合真空规
- 三组1英寸磁控溅射靶
- 公转阳级平面基片挂架
- 2DC+1RF溅射电源
- 手动闸板阀
- 精密气体质量流量计（选配）
- 基板600°C短波红外可调加热器（选配）
- 手动腔体上盖开启装置
- 自动PLC控制系统可提供手动调试模式
- 7.5英寸工控触控屏，操作简单易用
系统结构图如下：
外观尺寸图如下：
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SRS-180溅射机配置表 |
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技术指标 |
可选配置和增加配件 |
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三组磁控溅射靶自动沉积 |
80L/s涡轮分子泵系统 |
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50L/s抽速，极限真空5.0E-6torr(50L/s) |
DC PLUS电源，用于化合物共射镀膜 |
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自动基板公转控制 |
石英晶体膜厚控制 |
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手动角阀控制压力 |
备用腔室内胆 |
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1路MFC布气系统 |
射频离子辅助沉积 |
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不锈钢腔室，手动顶盖开启模式 |
射频等离子基板清洗 |
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1*RF和2*DC电源可三靶共溅 |
样品基板公自转旋转 |
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电源规格：220V – 50/60 HZ-20A |
多路反应气体MFC |
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尺寸：高125cm×宽75cm×深65cm |
腔体密封套件 |
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质量：〜40KG |
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鑫镭真空专业为企业和科研项目制作用于薄膜材料实验的小型多靶溅射系统，提供真空镀膜机的全系统整合、升级和专用系统定制以及真空设备整机维修、安装等服务。质量可靠，提供多个案列参考。
