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热蒸发是一种简单常用的物理气相沉积(PVD)技术,SRT3热蒸发镀膜仪采用三组热蒸发源在高真空环境沉积薄膜,适用于金属或合金的多层快速沉积。
定制生产皮拉尼、冷/热阴极规、电离规、薄膜规等各类真空测量仪器校准、标定计量仪器。
多靶磁控溅射PVD系统,SRS-400型磁控溅射镀膜机,配备三组磁控溅射靶群及控制系统,可沉积金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜层。
SRS-180小型磁控溅射仪,配备三个微型磁控溅射靶群,适用于沉积各种单/多层膜系.可实现单靶直溅和多靶共射功能。即插即用,方便快捷。
SRGA-80型真空校准仪用在 1.3x10-3 到 1.3x10+5 Pa(1x10-5 到 1000 Torr)的压力下对各种真空计进行快速精确的半自动或手动校准和验证。该系统为电容压力计、皮拉尼、压电、冷阴极 (Penning)、热阴极 (Bayard-Alpert) 和其他类型的真空规提供校准功能。
SRS-500-U型磁控溅射PVD系统在原有多靶磁控溅射机的基础增加了自动进料系统可全自动完成样品准备-真空准备-样品镀膜-样品自动装卸载功能。可快速预制样品并保持腔室和样品洁净度,减少中间操作和环境污染对工艺的影响。
SRS-500型磁控溅射PVD系统,最多可配备五个独立溅射靶位和配套直流和射频源,采用涡轮分子泵组和自动压控系统等高端配置,适用于沉积各种金属和反应膜层。可实现单靶直溅和多靶共溅功能。
我们为客户提供新材料开发的真空镀膜打样、产品加工等服务。包括金属膜、增透膜、导电膜、增反射膜和电介质膜。
通过DC、RF(13.56 MHz)或脉冲MF(10 – 200 kHz)电源对金属、半导体及其化合物进行溅射沉积和反应膜磁控溅射沉积系统
BROOKS CTI ON-BOARD全系列冷泵维护保养
PFEIFFER Hipace80是行业内转速最高的涡轮分子泵(90000rpm),普遍用于需要高转速的真空排气系统,适用质谱分析仪,氦质谱检漏仪、大型电镜等高真空系统。