圆形高真空靶适用于大多数磁控溅射材料，传统的间接冷却和夹持式靶设计，带有整体阳极屏蔽组件。最适合中低功率研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的直径范围为1到4英寸，几乎可以对任何材料起作用，具有出色的靶材利用率，可以使用RF，DC或Pulse-DC电源驱动。具体尺寸搭配如下图：

性能优点：

• 压力范围宽：可承受10 ^-9托
• 低放气，不需要在低真空环境启辉
• 优异的薄膜均匀性和沉积速率
• 高效溅射靶材利用率
• 优异的靶头锁扣机构，消除了对导热膏加持器等的需求。
• 紧凑的模块化磁铁阵列
• 磁铁不暴露在真空中
• 磁铁不暴露于冷却水
• 更换靶材期间冷却水不暴露于真空室
• 提供不平衡的操作以及与磁性材料的兼容性
• 提供全套配件（进气口，靶罩，挡板，磁阵列等）

图1：TM03AS10

图2：TM03RS10

图3：TM03FS10

鑫镭真空专业设计制作各种规格磁控溅射靶，制作科研实验溅射机用靶，拥有专业技术开发团队、专业测试设备，全方位技术支持，和国内多家知名企业和科研机构合作经验，是可靠的真空镀膜设备生产企业。