离子束辅助的电子束沉积（ＩＢＤ）镀膜系统
主要工艺特点介绍：
*适应更多蒸发镀膜工艺的要求，可选择配备单/双电子束蒸发、电阻热蒸发、离子束辅助系统等多种组合镀膜工艺，适用于多种金属和非金属导电体材料成膜工艺。
* 保持恒定的沉积速率，系统设计了实时沉积速率控制单元，运用石英晶体测厚仪将测得的沉积速率用来调整电源电流的反馈控制单元，驱动电流以调节成膜速率。
* 设计良好的基板安装方式，以使基板均匀地暴露在蒸发源有效范围，同时兼具离子源照射角度，基板支架设计成由球体组成旋转的圆装多边形状，配备行星旋转功能。
* 为了提高附着力和更高密度涂层，系统还配备了离子源辅助镀膜系统可选，在沉积金属氧化物或氮化物膜时，离子源辅助系统非常有助于改善膜层的物理密度、光学和机械性能。还可以用于蒸镀工艺之前清洗和蚀刻基板，以提高附着力。
设备原理（图1）
* 系统设计方面充分兼顾科研实验和工业生产两种环境的适应性，机体设计紧凑美观，便于维护保养和日后系统升级改造，腔室采用全304不锈钢经表面处理保证了腔室的光洁度和气密性。
电子枪蒸发+热蒸发+离子束辅助镀膜系统设计方案（图2）
电子束+热蒸发+离子束系统腔室图（图3）
* 设备各单元经仔细设计后更便于拆装和维护，管线整齐、泵浦和电源等大件安装位置合理。
* 设备高低配可选，模块化软件系统适用于不同的配置，无需更改系统更便于硬件升级。
* 机体钣金系统整洁靓丽，科技感强，触控屏设计合理更利于操作。
设备整机外观图（图4）
鑫镭真空提供各种工艺真空镀膜机系统的定制生产，工艺整合、设备升级和真空镀膜设备整机维修、安装等服务。专业为科研项目制作用于半导体薄膜材料实验的PVD系统，质量可靠，提供多个案列参考。
多种电子束沉积镀膜系统解决方案，根据客户实际要求定制生产单/双电子束蒸发、电子束+电阻热蒸发、电子束沉积+离子束辅助等多种工艺PVD系统。并实现软件模块化，自主选择自动切换系统控制单元和工艺参数设定。制作完善可靠的多工艺镀膜系统。
